PVD（物理气相沉积）系统通过物理方式在真空环境中制备薄膜材料，广泛应用于精密制造、新能源、半导体等行业。其核心过程是：气相原子在基材表面凝结形成纳米至微米级薄膜，通过等离子体辅助可以提高膜层的附着力，增加膜层的均匀性与稳定性。
PVD 膜层具有高硬度、耐腐蚀性、导电性等优异特性。
在 PVD（物理气相沉积）系统中，等离子清洗是一个非常重要的步骤，它主要用于清洁基材表面，以确保薄膜的良好附着性和均匀性。
基材表面常附着油污、灰尘、指纹等有机物质，这些污染物会直接影响薄膜的附着力，导致膜层不均匀、脱落等问题。而等离子清洗通过等离子体激发表面污染物，能有效去除这些有机污染物和氧化物，从根本上保证薄膜的附着力。
更重要的是，等离子清洗不仅能去除污染物，还能改变基材的表面化学性质，增加表面活性。这对于提高薄膜与基材的结合力尤为关键 —— 尤其是金属、陶瓷、玻璃等材料，表面活性提升后，薄膜的附着性和稳定性会得到显著提高。
等离子体分析仪在等离子处理过程中扮演着至关重要的角色，其主要作用是实时监测等离子体的状态，确保处理过程的稳定性与精确性。具体体现在以下几个方面：
实时监测等离子体强度
等离子体分析仪能实时监控等离子体的强度变化，提供精确数据。这对清洗效果至关重要：强度过低可能无法有效去除污染物；过高则可能损伤基材表面。
优化等离子清洗过程
分析仪通过提供等离子体强度曲线，帮助操作人员实时掌握清洗过程中的等离子体状态。工程师可基于这些数据调整气体流量、功率等参数，优化清洗过程，确保处理效果的均匀性和稳定性。
保障处理均匀性，提升工艺效率
等离子清洗效果受多种因素影响，而借助晋芯智控的电浆强度分析，能提供实时数据反馈，帮助判断等离子体是否均匀分布在整个处理区域。这可确保基材表面被均匀清洗，避免因处理不均影响薄膜质量，最终提升整个 PVD 沉积工艺的稳定性与效率。
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