等离子强度分析仪：从工艺黑盒到数据可视

在半导体、光电、精密制造等高端工艺领域，等离子体处理技术几乎无处不在。从刻蚀、去胶，到 PVD 沉积、PECVD 膜层增长、NF3 清腔，每一道流程的稳定与否，直接决定了产品良率和企业的生产成本。

让等离子状态 “看得见”：分析仪的核心价值

这正是 “等离子强度分析仪” 存在的意义。它通过对 Plasma 电离强度的连续监测与数据分析，实现了等离子状态的实时可视化，为制造工艺插上 “看得见的眼睛”。

晋芯智控 JSC60E 系列：国产设备的技术突破

晋芯智控研发的JSC60E 系列等离子强度分析仪，正是行业内极具代表性的国产设备之一。它不仅支持单通道与多通道版本，还配备了蓝牙无线传输、1Hz 高频采样、异常阈值报警、多区域 Mapping 等一系列实用功能，为企业提供从数据采集到工艺分析的完整解决方案。

核心应用场景，覆盖高端制造全流程

1. 刻蚀与去胶系统中的实时反馈

在刻蚀和去胶工艺中，Plasma 强度的稳定性直接影响到材料蚀刻深度、图形完整性和清胶效果。

JSC60E 可实时记录强度变化曲线，帮助工程师精准判断刻蚀终点或残胶是否清除，显著提升良率与重复性。

2. PVD/PECVD 等沉积系统的均匀性优化

薄膜厚度不一、膜层附着力差，是沉积类工艺的常见问题。等离子强度分析仪通过强度波动判断沉积区域的不稳定因素，配合 Mapping 功能还能定位 “问题点”，为设备调试和膜层优化提供科学依据。

3. 清腔过程中的清洁效率监控

在 NF3 等离子清腔系统中，JSC60E 可通过设定强度阈值，实现清腔强度是否达标的自动判断，避免残留污染，提高清洁的可靠性和效率，降低过度清洗带来的能耗浪费。

4. 多场景适配：从真空到大气的普适性

等离子强度监控不仅适用于真空腔体内的低压等离子，还可配合大气等离子喷枪，实现非接触式强度检测，尤其适合高速生产线、大幅面材料的表面预处理、图层改性等工艺监控。

5. 实时性 + 历史可追溯，全面数据掌控

设备支持实时数据采集与历史数据回看功能，工程师可以快速调用过往运行数据，对比不同批次或不同工艺参数下的等离子表现，进行工艺优化或问题溯源

从 “进口垄断” 到 “国产突破”：晋芯智控的技术路径

作为一家专注于智能工艺监测与过程控制技术的企业，晋芯智控早在等离子体分析设备尚属 “进口垄断” 的时期，就开始自主研发相关技术。

从首代模拟传感模块，到如今的 JSC60E 高频多通道数字化版本，晋芯智控累计投入研发，打造由半导体工艺、嵌入式开发、数据算法、软硬件整合等多领域的核心设备。

不止于硬件：构建工艺数据智能化生态

我们不仅提供硬件产品，更在努力打造一整套工艺数据智能化解决方案：

• 实现传感器与 MES 系统对接，打通数据通路；
• 与 AI 视觉系统联动，智能识别等离子异常图像；
• 为客户定制高频清洗、预处理、材料改性等工艺的专属分析模板。

未来展望

晋芯智控的目标不仅是成为等离子分析仪的领先制造商，更致力于推动整个等离子应用领域的 “数据智能化” 升级。

我们相信 —— 真正优秀的制造，不只是 “做得准”，更要 “看得清”。